扫描电镜与透射电镜扫描电镜和透射电镜有什么区别

扫描电镜和透射电镜有什么区别1、结构差异：主要体现在样品在电子束光路中的位置不同。透射电镜的样品在电子束中间，电子源在样品上方发射电子，经过聚光镜，然后穿透样品后，有后续的电磁...

扫描电镜和透射电镜有什么区别

1、结构差异：主要体现在样品在电子束光路中的位置不同。透射电镜的样品在电子束中间，电子源在样品上方发射电子，经过聚光镜，然后穿透样品后，有后续的电磁透镜继续放大电子光束，最后投影在荧光屏幕上；扫描电镜的样品在电子束末端，电子源在样品上方发射的电子束，经过几级电磁透镜缩小，到达样品。当然后续的信号探测处理系统的结构也会不同，但从基本物理原理上讲没什么实质性差别。

相同之处：都是电真空设备，使用绝大部分部件原理相同，例如电子枪，磁透镜，各种控制原理，消象散，合轴等等。

2、基本工作原理：透射电镜：电子束在穿过样品时，会和样品中的原子发生散射，样品上某一点同时穿过的电子方向是不同，这样品上的这一点在物镜1-2倍焦距之间，这些电子通过过物镜放大后重新汇聚，形成该点一个放大的实像，这个和凸透镜成像原理相同。

这里边有个反差形成机制理论比较深就不讲，但可以这么想象，如果样品内部是绝对均匀的物质，没有晶界，没有原子晶格结构，那么放大的图像也不会有任何反差，事实上这种物质不存在，所以才会有这种牛逼仪器存在的理由。经过物镜放大的像进一步经过几级中间磁透镜的放大(具体需要几级基本上是由电子束亮度决定的，如果亮度无限大，最终由阿贝瑞利的光学仪器分辨率公式决定)，最后投影在荧光屏上成像。

由于透射电镜物镜焦距很短，也因此具有很小的像差系数，所以透射电镜具有非常高的空间分辨率，0.1-0.2nm，但景深比较小，对样品表面形貌不敏感，主要观察样品内部结构。扫描电镜：电子束到达样品，激发样品中的二次电子，二次电子被探测器接收，通过信号处理并调制显示器上一个像素发光，由于电子束斑直径是纳米级别，而显示器的像素是100微米以上，这个100微米以上像素所发出的光，就代表样品上被电子束激发的区域所发出的光。实现样品上这个物点的放大。

如果让电子束在样品的一定区域做光栅扫描，并且从几何排列上一—对应调制显示器的像素的亮度，便实现这个样品区域的放大成像。具体图像反差形成机制不讲。由于扫描电镜所观察的样品表面很粗糙，一般要求较大工作距离，这就要求扫描电镜物镜的焦距比较长，相应的相差系数较大，造成最小束斑尺寸下的亮度限制，系统的空间分辨率一般比透射电镜低得多1-3纳米。但因为物镜焦距较长，图像景深比透射电镜高的多，主要用于样品表面形貌的观察，无法从表面揭示内部结构，除非破坏样品，例如聚焦离子束电子束扫描电镜FIB-SEM，可以层层观察内部结构。透射电镜和扫描电镜二者成像原理上根本不同。透射电镜成像轰击在荧光屏上的电子是那些穿过样品的电子束中的电子，而扫描电镜成像的二次电子信号脉冲只作为传统CTR显示器上调制CRT三极电子枪栅极的信号而已。透射电镜我们可以说是看到了电子光成像，而扫描电镜根本无法用电子光路成像来想象。

3、样品制备：TEM：电子的穿透能力很弱，透射电镜往往使用几百千伏的高能量电子束，但依然需要把样品磨制或者离子减薄或者超薄切片到微纳米量级厚度，这是最基本要求。透射制样是学问，制样好坏很多情况要靠运气，北京大学物理学院电子显微镜实验室，制样室都贴着制样过程规范，结语是祝你好运。

扫描电镜和透射电镜的区别

扫描电镜和透射电镜在结构和工作原理上都存在显著的差异。

结构差异：两者的主要结构差异在于样品在电子束光路中的位置。在透射电镜中，样品位于电子束的中部，电子源位于样品上方，电子经过聚光镜后穿透样品，然后通过后续的电磁透镜进一步放大电子束，最后投影到荧光屏幕上。而在扫描电镜中，样品位于电子束的末端，电子源也位于样品上方，发射的电子束经过几级电磁透镜缩小后，到达样品。

工作原理：透射电镜的工作原理是，当电子束穿过样品时，会与样品中的原子发生散射，样品上某一点同时穿过的电子方向是不同的，这些电子通过过物镜放大后重新汇聚，形成该点一个放大的实像，这与凸透镜成像原理相同。扫描电镜则是通过电子束到达样品后，激发样品中的二次电子，二次电子被探测器接收后，通过信号处理并调制显示器上一个像素发光，这样，这个像素所发出的光就代表样品上被电子束激发的区域所发出的光，从而实现对样品上这个物点的放大。

分辨率：由于扫描电镜所观察的样品表面很粗糙，一般要求较大的工作距离，这就要求扫描电镜物镜的焦距比较长，相应的相差系数较大，这可能会对最小束斑尺寸和最大放大倍数产生影响，从而影响分辨率。相比之下，透射电镜对工作距离的要求较为宽松，其物镜的焦距较短，相应于较小的焦深和较大的物镜孔径角，这有利于提高分辨率。

总的来说，透射电镜和扫描电镜在结构、工作原理和分辨率上存在明显差异，这些差异使得它们在不同的研究领域和应用中具有各自的优势。

透射电镜技术与光镜技术比较比较

1、工作原理不同，一种是光学原理，一种是电学原理

2、分辨率不同，透射电镜极大提高分辨率

3、成像原理不同，一种是反射光（也有少部分透射光），一种是透射成像

4、仪器、价格、维护不同

场发射扫描电镜与一般的扫描电镜有什么区别

利用透射电子显微镜（Transmission Electron Microscopy TEM，台译穿透式电子显微镜）可以直接获得一个样本的投影。在这种显微镜中电子穿过样本，因此样本必须非常薄。组成样本的原子的原子量、加速电子的电压和所希望获得的分辨率决定样本的厚度。样本的厚度可以从数纳米到数微米不等。原子量越高、电压越低，样本就必须越薄。

通过改变物镜的透镜系统人们可以直接放大物镜的焦点的像。由此人们可以获得电子衍射像。使用这个像可以分析样本的晶体结构。

场发射扫描电子显微镜是一种比较简单的电子显微镜，它观察样本上因强电场导致的场发射所散发出来的电子。

假如观察的是透过样本的扫描电子的话，那么这种显微镜被称为扫描透射电子显微镜